反应离子束刻蚀系统

技术参数

1、衬板与样品台设计专用衬板：2套，易拆卸、易清洁。样品台倾斜范围：0-180°，样品台旋转速度：0-20rpm可调；

2、射频离子源技术：离子源直径：≥220m，提供稳定、高效的离子束输出；

3、刻蚀性能：支持垂直刻蚀与斜齿刻，8英寸样品片内均匀性：＜5%，6英寸样品片内均匀性：＜3%。

功能介绍

样品兼容性：最大支持晶圆片尺寸：8英寸，兼容更小尺寸样品，结合纯物理刻蚀及反应气体辅助的化学刻蚀，刻蚀其他有：Ar、N2、CHF3、SF6、CF4、O2，可实现对包括贵金属的各类金属，介质，化合物，石英等各类材料的刻蚀加工。