电子束曝光系统EBL

电子束曝光系统EBL

仪器型号Zeiss sigma300+Raith ELPHY Quantum

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服务周期收到样品后15个工作日内完成

详细描述

技术参数：

1、样品尺寸最大为20x20mm；

2、分辨率：二次电子成像，1nm@15kV/1.6nm@1kV;

3、光刻精度小于100nm。

功能介绍：

1、获取样品的微纳米级高分辨形貌；

2、可进行二次电子与背散射电子成像；

3、光刻精度小于100nm。