聚焦离子束成像与加工系统FIB
仪器型号Carl Zeiss Orion Nanofab
预约次数4次
服务周期收到样品后10个工作日内完成
详细描述
技术参数：
1、He离子束成像分辨率≤0.50nm，加工精度≤10nm；
2、Ne离子束成像分辨率≤1.9nm，加工精度10nm~50nm；
3、Ga离子束成像分辨率≤3nm，加工精度≤30nm；
4、配置Pt、W气体沉积系统，可实现金属沉积。
功能介绍：
1、可实现从纳米到百微米多尺度的图形化加工；
2、可实现非导电性、磁性样品、高景深样品的高精度二次电子成像；
3、可实现样品截面切割和截面成像观察；
4、应用于MEMS、集成电路、光学器件的加工制备，失效分析表征等。
