紫外纳米压印机NIL

紫外纳米压印机NIL

仪器型号GL8 CLIV Gen2

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服务周期收到样品后15个工作日内完成

详细描述

技术参数:

1、适用于最大8英寸晶圆、并向下兼容6英寸、4英寸、2英寸的晶圆;

2、样品厚度0-0.8mm;

3、光源:365nm LED紫外光固化系统;

4、压印结构精度50nm;深宽比7.5:1;压印残余层厚度<20nm;可用于斜齿光栅结构压印;对位精度:上下层对位标记几何中心偏差不超过±6um;

5、自动压印、自动曝光固化、自动脱模;

6、兼容基底材料:硅片、玻璃、石英、塑料、金属等;兼容原始模具材料:硅片、玻璃、石英、塑料、金属等;

7、载台最高温度70℃。

 

功能介绍:

1、微电子制作,MEMS/NEMS/传感器,微流体,光波管;

2、光学器件制作,虚拟现实和增强现实光波导(AR Waveguides);

3、三维激光微纳米加工。